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飛秒瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)Omni-fs-TA用于研究光電材料、光電器件，有機(jī)太陽能電池等激發(fā)態(tài)光譜和動力學(xué)，是在超快時間尺度上研究物理和化學(xué)材料體系中各種動力學(xué)過程的有效工具, 用于能源材料、納米材料、有機(jī)分子材料的光化學(xué)過程更深層次的探究和論證。

半導(dǎo)體顯微激射熒光系統(tǒng)，本文推出一個基于顯微光路結(jié)構(gòu)的測量系統(tǒng)，耦合連續(xù)激光器、脈沖激光器、探針座（電激勵），分別以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體材料的熒光光譜，光泵浦激射，電泵浦激射的測量功能。

熒光壽命升級包：TCSPC Plus介紹，卓立漢光推出全新?代?精度時間相關(guān)單光?計(jì)數(shù)TCSPC Plus數(shù)采系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)低?2ps的時間分辨率，同時死時間降低?2ns，計(jì)時抖動＜10ps，可?持?達(dá)500Mcps的瞬時飽和計(jì)數(shù)率。熒光壽命測試下限可達(dá)100ps，可為分子內(nèi)部快速動力學(xué)過程的探索，提供有利的研究工具。

X 射線的穩(wěn)態(tài)發(fā)光：熒光光譜分析儀器。卓立漢光能夠提供基于X射線為激發(fā)源的光譜，壽命，成像，光產(chǎn)額的相關(guān)測量方案。能夠提供全套涵蓋X 射線激發(fā)源、光譜儀、穩(wěn)態(tài)及瞬態(tài)數(shù)據(jù)處理、成像測量（CMOS 成像，單像素成像，TFT 面陣成像）、輻射劑量表、輻射安全防護(hù)等，輻射防護(hù)防護(hù)滿足國標(biāo)《低能射線裝置放射防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)》（GBZ115-2023）。

4K光學(xué)低溫恒溫器：變溫?zé)晒夤庾V儀標(biāo)配真空樣品環(huán)境，具有變溫范圍大、操作簡單和應(yīng)用范圍廣等特點(diǎn)，降溫至4K時間僅需90分鐘（空載），可定制不同尺寸的樣品空間、具備低震動、多種窗材和多種樣品類型如粉末、薄片、電致發(fā)光配件等。 此低溫恒溫器還可搭配我司穩(wěn)態(tài)瞬態(tài)熒光光譜儀實(shí)現(xiàn)程序可控的低溫光譜采集。

一套用于皮秒時間分辨的超快熒光測試系統(tǒng)解決方案，為您提供ps-ns-us 量級的超快熒光壽命或超快等離子體衍化過程的快速測量。